全程綜合水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的腐蝕、結垢、菌藻滋生以及水質惡化等問題而研制的綜合處理器。主要利用活性鐵質濾膜、機械變孔徑阻擋及電暈效應場高頻電磁場四位一體的綜合過濾體,吸附在實際運行工況下各種水系統(tǒng)已形成的硬度物質及復合垢,降低其濃度,達到控制污垢及大部分硬度垢的目的。同時,通過換能器將特定頻能量轉換給被處理的介質——水,形成電磁極化水,使其成垢離子的排列順序位置發(fā)生扭曲變形,當水溫升高到一定程度時,處理后的水需經過較長一段時間方能恢復到原來的狀態(tài),從而在此階段降低成垢的機率。此外,電磁場化水還可有效地殺滅水中的菌類、藻類等,有效地抑制水中微生物的繁殖。
1、安裝位置的選擇
靠近用水設備:應安裝在進水總管道上,以控制進水品質,并盡量接近用水設備的進水口。
便于檢修:設備之間凈距離不小于1500mm;設備與墻體凈距離不小于1000mm;設備與四周應留出不小于500mm的維修空間。
2、安裝方式的確定
旁通式安裝:建議采用旁通式方法進行設備的安裝,以滿足在不停機狀態(tài)下檢修設備及沖洗濾體的需要。
3、運行前的檢查
管路清洗:在系統(tǒng)安裝完成后,便應進行管路清洗,清洗期間需要敲打管路,從而除去附著在管內壁的焊渣等雜物。
電源連接:保持控制器外殼干燥,接通設備主體配電箱上的電源(交流220V/50Hz),配電箱指示燈亮,設備正常運行。
4、運行中的操作
先供水后回水:運行期間,需要先打開供水閥,等到系統(tǒng)充滿水后,再打開回水閥,以利于去除管路的雜質。
壓差控制:根據設備系統(tǒng)設定的壓差和濃縮比,及時進行排污處理。
反沖洗操作:當進出水壓差達到設定程度時,應根據水質進行調整設置反沖洗頻次。具體步驟為:打開旁通閥,關閉進水閥,關掉電源,打開排水閥,開始反沖洗。
5、運行后的維護
定期排污:根據水質情況,定期進行排污處理,以保持系統(tǒng)的清潔和效率。
檢查設備狀態(tài):定期檢查設備的運行狀態(tài),包括電源、控制器、過濾器等部件的工作是否正常。